Современная электроника №5/2019

ПРОЕКТИРОВАНИЕ И МОДЕЛИРОВАНИЕ 67 WWW.SOEL.RU СОВРЕМЕННАЯ ЭЛЕКТРОНИКА ◆ № 5 2019 вания и пользователь не имеет лицен- зии Calibre RealTime или если всё-таки требуется финальная, более исчерпыва- ющая верификация перед этапом tape- out, можно использовать платформу Calibre в режиме stand-alone. Общая структура приложений Calibre, которые используются до этапа sign-off tapeout, приведена на рисунке 6. На этом этапе можно выделить 3 функциональные группы приложений: 1. Группа физической верификации. 2. ГруппаDFM(Design forManufacturing). 3. Группа верификации схемы. Как правило, верификация начина- ется с прогона Calibre nmDRC и про- верки выполнения правил из rule deck для технологии, по которой будет изго- товлен кристалл. На сегодняшний день Calibre nmDRC является де-факто стан- дартом в области физической верифи- кации. Файлы правил Calibre nmDRC появляются и отрабатываются на фабриках задолго до того, как та или иная технология запускается в серий- ное производство. Таким образом, пользователи всегда имеют надёж- ные и проверенные данные, кото- рые позволяют со 100%-й точностью верифицировать проекты. Програм- ма отличается исключительно высо- кой скоростью обработки и эконом- ным использованием ресурсов памяти. Распараллеливание обработки в режи- ме hyperscaling на многоядерных или многопроцессорных системах обеспе- чивает существенное повышение про- изводительности. Для технологических норм 20 нм и ниже оказывается недостаточно кон- троля геометрических правил проекти- рования. В последнее время появились технологии двойного фотошаблона и мультифотошаблона, которые позво- ляют повысить разрешающую способ- ность рисунка топологии за счёт при- менения нескольких фотошаблонов. Эта задача решается с помощью опции Calibre Multi-Patterning, которая обеспе- чивает автоматическое или полуавто- матическое разбиение рисунка слоя на две или несколько частей для получе- ния нескольких фотошаблонов. Другая технология, широко при- меняемая для продвинутых техноло- гических норм, получила название Pattern Matching. В состав платфор- мы Calibre входит опция с соответ- ствующим названием Calibre Pattern Matching. Суть технологии сводит- ся к тому, что вместо обработки гео- метрических правил, описанных на языке SVRF, опция использует зара- нее сохранённую библиотеку вери- фицированных шаблонов рисунков топологии для сравнения с тополо- гией текущего проекта и установки маркера «Верифицирован» в случае совпадения. Это позволяет существен- но ускорить и повысить точность про- цесса верификации. Последняя опция из данной груп- пы – Calibre AutoWaiver – обеспечива- ет «маскировку» и исключение из про- цесса верификации областей тополо- гии, которые по какой-либо причине не нуждаются в данной процедуре. Напри- мер, это могут быть заранее верифи- цированные для данной технологии физические IP-блоки или области, хотя и генерирующие формальные ошибки верификации, но не влияющие на про- цесс изготовления и выхода годных. К группе DFMотносятся опцииCalibre YieldEnhancer, Calibre YieldAnalyzer и Calibre LFD. Первая из них реализует ряд опера- ций, которые направлены на повы- шение «технологичности», а следова- тельно, повышения выхода годных. К таким операциям относятся запол- нение металлом разреженных обла- стей топологии (smart fill), удвоение межслойных переходов (double via) и другие. Опция Calibre YieldAnalyzer обеспечивает обратную связь от эта- па анализа выхода годных после изго- товления кристалла к процессу физи- ческой верификации. Она анализирует критические области отказов и форми- рует дополнительные правила (на язы- ках SVRF и TVF), которые затем вклю- чаются в библиотеки DRC/DFM-правил с целью повышения выхода годных в последующих выпусках данного кри- сталла или других проектах, выполня- ющихся по той же технологии. Опция Calibre LFD моделирует влияние вари- аций параметров процесса фотолито- графии на возникновение дефектов в топологии кристалла и формирует кор- ректирующие правила, сводящие дан- ное влияние к минимуму. Последняя группа относится к вери- фикации параметров схемы. Модуль Calibre nmLVS решает классическую задачу извлечения параметров полу- проводниковых приборов и их связно- сти из топологического представления проекта и сравнения их с исходным нетлистом схемы проекта. Вторая важ- ная задача – передача паразитных пара- метров, полученных с помощью прило- жения экстракции Calibre xRC/XACT, в исходный нетлист для последующего более точного Spice-моделирования в приложениях Eldo или AFS. Как и все остальные приложения платформы Calibre, Calibre nmLVS поддерживает как плоские, так и иерархические про- екты и распараллеливание на много- ядерных системах. Оно интегрировано с приложением Calibre PERC, что позво- ляет учитывать при моделировании не только геометрические, но и электри- ческие параметры. Одной из важнейших задач, кото- рая стоит перед разработчиками SoC, является экстракция паразит- ных параметров непосредственно из топологии кристалла. Как уже было сказано, это позволяет проводить Calibre xRC/XACT Calibre PERC Calibre nmLVS Верификация схемы Calibre AutoWaivers Calibre MP Calibre Pattern Match Calibre nmDRC Расширеннная физическая верификация Calibre LFD Calibre YieldAnalyzer Via and edge modification Smartfill Calibre YieldEnhancer Повышение технологичности (DFM) Рис. 6. Приложения Calibre, используемые до этапа tapeout