СОВРЕМЕННАЯ ЭЛЕКТРОНИКА №9/2016

ПРОЕКТИРОВАНИЕ И МОДЕЛИРОВАНИЕ 77 WWW.SOEL.RU СОВРЕМЕННАЯ ЭЛЕКТРОНИКА ◆ № 9 2016 Новости мира News of the World Новости мира TSMC получила пять заказов на производство 10-нм микросхем Taiwan Semiconductor Manufacturing Co. готовится начать массовое производство микросхем при помощи технологическо- го процесса 10 нм. Судя по ранее озвучен- ным данным, данная технология позволит увеличить количество транзисторов и так- товые частоты систем-на-кристалле, а так- же снизить их энергопотребление. Однако улучшения не будут действительно глобаль- ными, вследствие чего лишь ограниченное количество клиентов TSMC воспользуется 10-нм техпроцессом. Тем не менее, в ком- пании говорят о том, что ряд клиентов заин- тересован в данной технологии, получив- шей название CLN10FF. Согласно ожиданиям TSMC, техноло- гия CLN10FF позволит увеличить транзи- сторную плотность микросхем примерно на 50% по сравнению с 16-нм технологи- ями компании последних лет (CLN16FF, CLN16FF+, CLN16FFC), которые исполь- зовали межблочные соединения от 20-нм техпроцесса CLN20SOC. Подобное улуч- шение потенциально даёт возможность существенно увеличить количество тран- зисторов на кристалле. Тем не менее, частотный потенциал 10-нм микросхем TSMC увеличится лишь на 20% при ана- логичной сложности и энергопотреблении, а уменьшение энергопотребления соста- вит 40% при сохранении тактовой часто- ты и транзисторного бюджета. Таким обра- зом, с точки зрения многих разработчиков микросхем, CLN10FF не позволяет созда- вать радикально более мощные решения по сравнению с теми, что производятся по нормам CLN16FF+ (при значительном уве- личении транзисторного бюджета потребу- ется снижать тактовую частоту). Как следствие, многие из клиентов TSMC пропустят технологический процесс 10 нм, как поступили с технологическим процессом 20 нм. Исключение составят разработчи- ки SoC для мобильных и некоторых других устройств, которым требуется демонстриро- вать хоть небольшой технический прогресс каждый год. Именно поэтому количество моделей микросхем, которые будут произ- водиться с использованием CLN10FF, будет небольшим. TSMC заявила о том, что на сегодняшний день получила фотомаски для изготовления пяти процессоров. Для срав- нения, за месяцы до начала массового про- изводства интегральных схем с использо- ванием CLN16FF в 2015 г. компания име- ла заказы на изготовление свыше десятка чипов. К настоящему моменту TSMC уже успела произвести первую микросхему по техно- логии 10 нм. При этом производительность и плотность дефектов, по словам одного из руководителей компании, примерно соот- ветствуют тем же параметрам микросхем, выпущенных на ранних стадиях освоения других продвинутых норм производства. Технологический процесс 10 нм останет- ся флагманской технологией TSMC пример- но до начала 2018 г., когда компания нач- нёт изготовлять микросхемы с использова- ние норм производства 7 нм. В настоящее время более 20 клиентов TSMC выразили желание использовать CLN7FF, что гово- рит о том, что данная технология будет куда успешнее CLN10FF. www.3dnews.ru со ссылкой на TSMC