СОВРЕМЕННАЯ ЭЛЕКТРОНИКА 3/2016

СОВРЕМЕННЫЕ ТЕХНОЛОГИИ 30 WWW.SOEL.RU СОВРЕМЕННАЯ ЭЛЕКТРОНИКА ◆ № 3 2016 полимерных композитов и нанесения полимерных покрытий, выпускаются присадки к маслам и модифицирован- ные пластичные смазки. Область при- менения УДА постоянно расширяется. Существующие технологии нанесе- ния покрытий на поверхности дета- лей характеризуются большим разно- образием применяемых материалов, отличающихся как по своим структур- ным и химическим свойствам, так и по способам нанесения. Варьируя хими- ческий состав и структуру покрытия, можно получить поверхности с необ- ходимыми физико-механическими свойствами: заданной коррозионной стойкостью, электропроводностью, коэффициентом трения, микротвёр- достью, интенсивностью изнашива- ния и тому подобными. Появление новой разновидности алмазного материала – УДА детона- ционного синтеза – позволяет зна- чительно расширить диапазон при- меняемых частиц дисперсной фазы (оксидов, карбидов, сульфитов и так далее) для формирования компози- ционных электрохимических покры- тий. Использование УДА в качестве дис- персной фазы, вводимой в различные электролиты, расширяет область раз- работки и совершенствования тех- нологии нанесения наноуглеродных покрытий путём осаждения широко- го спектра металлов: хрома, никеля, меди, серебра, золота и других. Наиболее востребованным в про- мышленности в последние десятиле- тия является хромовое металл-алмаз- ное покрытие (ХМАП). По сравнению с классическим твёрдым хромировани- ем, ХМАП имеет более высокие техни- ческие характеристики: износостой- кость увеличивается в 1,8–2,4 раза, коэффициент трения снижается на 40–55%. А благодаря менее пористой структуре и высокой адгезии к основ- ному металлу, наноалмазное хромиро- вание имеет более высокую коррози- онную стойкость. Получение композиционных по- крытий методом гальванического соосаждения мелкодисперсных частиц с металлом (хромом и другими) извест- но давно. Однако, поскольку электро- литы хромирования являются мощны- ми окислителями, выбор материала для соосаждения с хромом достаточно узок. УДА является наиболее перспек- тивным материалом, благодаря таким свойствам алмаза, как сверхтвёрдость, низкий коэффициент трения, высо- кая теплопроводность и химическая инертность. Эти свойства алмаза очень важны, но всё ещё недостаточны для выбора его в качестве модификатора покрытий. Две основные характеристики нано- алмазов детонационного синтеза – малый размер частиц (то есть их боль- шая удельная поверхность) и очень высокая поверхностная активность функциональных групп – определя- ют способность наноалмаза моди- фицировать различные материалы, в которых они распределены, изменяя физико-химические и механические свойства этих материалов. Получение алмазно-кластерного покрытия осно- вано на способности УДА соосаждать- ся с металлами при их электрохимиче- ском и химическом восстановлении из растворов солей. Это приводит к обра- зованию двухфазного композицион- ного электрохимического покрытия, состоящего из металлической матрицы и внедрённых в неё дисперсных частиц наноалмаза, которое характеризуется повышенной твёрдостью и обладает высокоизносными и триботехниче- скими характеристиками. Именно это и положено в основу технологии полу- чения композиционных наноалмазных хромовых покрытий. Кластерные материалы (наноал- мазы) существенно меняют процесс осаждения металлов, что, в свою оче- редь, меняет структуру износостой- кого покрытия на мелкозернистую с высокой адгезией. Вследствие это- го качественно улучшается укрыви- стость и достигается полное копиро- вание микрорельефа покрываемой поверхности, что значительно увели- чивает предельные напряжения сдви- гового и нормального отрыва гальва- нического покрытия от основы. На сегодняшний день актуальной задачей во всём мире является созда- ние инновационных упрочняющих покрытий, которые смогли бы объе- динить в себе такие качества, как высо- кая стойкость к износу и коррозион- ная стойкость (особенно в условиях абразивного износа и в узлах трения), а также низкий коэффициент трения, высокую технологичность и низкую стоимость. Одним из вариантов реше- ния этой задачи можно предложить использование композиционных галь- ванических покрытий с применением наноалмазов детонационного синте- за. Сегодня никакой другой материал лучше, чем наноалмазы, не позволя- ет увеличить микротвёрдость поверх- ностного слоя металла, его износо- стойкость, коррозионную стойкость, равномерность покрытия сложно- профильной поверхности и одно- временно улучшить её антифрикци- онные свойства в различных услови- ях трения. Л ИТЕРАТУРА 1. ГОСТ 9.301-86. Покрытия металлические и неметаллические органические. Общие требования. 2. Верещагин А.Л. Свойства детонационных наноалмазов. Издательство АлГТУ. Бар- наул. 2005. 3. Долматов В.Ю. Ультрадисперсные алма- зы детонационного синтеза. Получение, свойства, применение. СПб ГТУ. СПб. 2003. С. 344. 4. Исаков В.П., Лямкин А.И., Никитин Д.Н. Структура и свойства композиционных электрохимических покрытий хрома с наноалмазами. Физикохимия поверх- ности и защита материалов. 2010. Т. 46. № 5. С. 506–509. Новости мира News of the World Новости мира Microchip подписала контракт на покупку Atmel Microchip Technology Inc., производитель микроконтроллеров, аналоговых устройств и памяти (Чандлер, штат Аризона.), согла- совала покупку Atmel Corp. (Сан-Хосе, штат Калифорния.). Сумма покупки оценивается в $3,56 млрд. Компания Dialog Semiconductor, с которой Atmel ранее договаривалась о покупке, получила $137,3 млн отступных. Atmel разорвала предыдущее соглаше- ние с компанией Dialog Semiconductor PLC (Лондон, Англия) и выплатила $137,3 млн отступных. Сделка была согласована сове- тами директоров обеих компаний. Ожида- ется, что сделка будет окончательно закры- та во II квартале 2016 г., при одобрении акционерами компании Atmel, регулирую- щими органами и при соблюдении осталь- ных стандартных условий закрытия. Microchip собирается осуществить покупку за счёт комбинации из средств на собствен- ном балансе и займов. www.edn-europe.com