Современная электроника №1/2022

ПРОЕКТИРОВАНИЕ И МОДЕЛИРОВАНИЕ 61 WWW.SOEL.RU СОВРЕМЕННАЯ ЭЛЕКТРОНИКА ◆ № 1 2022 Рис. 11. Yosys. Поведенческий синтез Рис. 12. Delta Design Simtera. Поведенческий синтез Рис. 13. Synopsys Synplify. Поведенческий синтез ществляющих выбор одного из двух входящих сигналов в зависимости от контрольного сигнала) и защёлок (про- пускающих или нет входящий сигнал в зависимости от контрольного сигна- ла). В примере ниже сигнал clk отвеча- ет за выбор сигнала d0 или d1, переда- ваемого в биты [1: 0] выходного порта q. Обратите внимание, что в части else присвоение происходит во все четыре бита q[3:0], а в части if — только в первые два q[1:0]. Вследствие этого для битов q[1:0] создаётся мультиплексор, кото- рый по значению clk==0 пропускает d0[1:0] (выбор двух нижних битов d0 производится автоматически в соот- ветствии с тем, что именно попадает в q[1:0] в части else), а по clk==1 – d1. Для битов q[1:0] создаётся защёлка, работа- ющая при clk==0, то есть при ~ clk==1. module latch_range2(input logic clk, input logic [3:0] d0, input logic [1:0] d1, output logic [3:0] q); always_latch if (clk) q[1:0] <= d1; else q <= d0; endmodule Yosys выдаёт в качестве результа- та ссылку на некую процедуру, кото- рую он не может представить в виде цифровых компонентов (рис. 11), на рис. 12 Simtera реализует описанную выше логику, такой же результат выда- ёт Synplify – рис. 13. Заключение На текущий момент на российском рынке САПР Delta Design Simtera явля- ется хорошей альтернативой западным системам по проектированию конфи- гурации ПЛИС и может закрыть потреб- ности разработчиков на таких этапах, как проектирование, симуляция и пове- денческий синтез. При этом система постоянно модернизируется и допол- няется новым функционалом, предо- ставляется техническая поддержка и обучение. НОВОСТИ МИРА Т ЕХПРОЦЕСС TSMC N4X ПРЕДНАЗНАЧЕН ДЛЯ ВЫПУСКА МИКРОСХЕМ , ОТ КОТОРЫХ ТРЕБУЕТСЯ МАКСИМАЛЬНАЯ ПРОИЗВОДИТЕЛЬНОСТЬ Компания TSMC представила техпроцесс N4X, оптимизированный по критерию про- изводительности изготавливаемых микро- схем. Это первый техпроцесс такого рода среди техпроцессов TSMC 5-нанометро- вого поколения. Изготовленные с его при- менением микросхемы рассчитаны на наи- большие тактовые частоты среди микро- схем, изготавливаемых по техпроцессам этого поколения. Техпроцессы TSMC, оп- тимизированные по критерию производи- тельности, можно узнать по букве «X» в обозначении. Оптимизация затрагивает не только транзи- сторы, которые рассчитаны на повышенные то- ки и частоты, но и внутренний металлический стек. Кроме того, новый техпроцесс позволяет формировать конденсаторы сверхвысокой ём- кости со структурой «металл-изолятор-металл». Как утверждается, всё это позволяет по- лучить выигрыш по производительности до 15% по сравнению с N5 или до 4% по срав- нению с N4P при напряжении питания 1,2 В. Дополнительный потенциал увеличения про- изводительности обеспечен возможностью использования управляющих напряжений более 1,2 В. Заказчики могут ускорить раз- работку микросхем для N4X, воспользовав- шись тем, что для этого техпроцесса под- ходят общие правила проектирования для техпроцесса N5. В TSMC ожидают, что ри- сковое производство с применением N4X начнётся в первой половине 2023 года. ixbt.com